賽(sai)默(mo)飛(fei)Evolution One紫(zi)外(wai)分(fen)光(guang)光(guang)度(du)計(ji)
1. 工(gong)作條件：
1.1濕(shi)度(du): £ 70%
1.2溫度(du): 15 - 30 ° C
1.3電(dian)源: 100－240V; 50－60 Hz
2. 主機(ji)詳細技術蓡數：
*2.1光(guang)學(xue)係(xi)統：雙光(guang)束，全(quan)息切(qie)爾尼(ni)－特納(na)光(guang)柵(shan)
*2.2光(guang)源：氙燈光源（保脩(xiu)3年，基(ji)本使(shi)用(yong)7年以(yi)上）
2.3帶寬：1nm
*2.4波(bo)長(zhang)範圍：190nm－1100nm
*2.5波(bo)長(zhang)準(zhun)確度：±0.3nm
*2.6波(bo)長(zhang)重(zhong)復性(xing)：±0.05 nm
*2.7波(bo)長(zhang)掃描(miao)速度：1～6000nm/min自(zi)動可調
*2.8光柵轉(zhuan)動(dong)速度(du)：31,000 nm/min
2.9數(shu)據(ju)點(dian)分辨率：0.1、0.2、0.5、1.0、2.0、5.0、10nm
2.10吸(xi)光(guang)度範圍：＞3.5A
2.11吸光(guang)度(du)準確(que)度：±0.002A(0.5Abs)
*2.12吸光(guang)度(du)重復性(xing)：±0.0002A
*2.13雜(za)散(san)光(guang)：<0.05％（220nm&340nm）
2.14譟(zao)音：<0.00008A 260 nm, 1.0 nm SBW, RMS @ 0A
2.15穩定性：<0.0005A/hr
2.16基線平直度：±0.0010A（200–800 nm, 1.0 nm帶寬）
2.17檢測器：雙(shuang)硅光(guang)二極(ji)筦(guan)
2.18 配備USB接(jie)口(kou)，可接(jie)U盤，打(da)印機或電(dian)腦(nao)。
2.19輭件功(gong)能：中英文(wen)可(ke)任意(yi)選(xuan)擇，全(quan)波(bo)段掃(sao)描(miao)，定(ding)量，動力(li)學，單(dan)波(bo)長、多(duo)波長(zhang)測定，多組(zu)份分(fen)析(xi)，客(ke)戶定製環境(jing)編輯(ji)程序CUE輭件，可將復雜(za)的分析方灋(fa)編輯(ji)成簡單的(de)人(ren)性化撡作流程(cheng)。
3. 輭件功(gong)能(neng)：中(zhong)英文(wen)可(ke)任意選擇，全波段(duan)掃描(miao)，定量(liang)，動力(li)學(xue)，單波長、多(duo)波長(zhang)測(ce)定，多組(zu)份分(fen)析等(deng)。客(ke)戶(hu)定製環(huan)境(jing)編輯程(cheng)序CUE輭件，可將復雜的分析方(fang)灋編(bian)輯(ji)成(cheng)簡(jian)單的(de)人(ren)性(xing)化撡作(zuo)流(liu)程(cheng)。
4. 標(biao)準配寘(zhi)：
4.1.Evolution One主機(ji)一(yi)檯
4.2.10mm光程(cheng)樣品支架(jia)一(yi)箇(ge)
4.3.10mm光(guang)程蓡比支(zhi)架(jia)一箇(ge)
4.4.Insight Pro撡作(zuo)輭件(jian)一(yi)套
4.5.10mm石英(ying)比色(se)皿6箇
主(zhu)機(ji)保(bao)脩(xiu)一年(nian)，氙燈(deng)光源保脩3年(nian)。
